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第913章（第2页）

“对嘛，就连40／45nm工艺，三星还是靠我们，很难说不会又在一个节点上卡住，难以突破。”陆飞严肃说，“这么一比，台积电才是我们最大的敌人！不管现在，还是将来！”

“台积电那边计划今年过渡到32nm，然后最早在明年转向28nm，我们的进度并不比台积电慢。”梁孟松自信满满。

“梁博士，假如，我是说假如，假如没有最先进的代工厂给逻辑造芯片，假如逻辑还造不出比较先进的光刻机，假如……”

陆飞把前世华为遭到的打压说了一遍。

“陆总，这种极限施压情况下，也不是没有办法，可以考虑多重曝光技术。”

梁孟松沉吟片刻，一一列出优缺点。

尤其是缺点，虽然经过多重曝光工艺，可以改变光刻机的制程极限，但良品率低。

而且每次曝光都需要校准，而对准误差会在多次曝光中积累，进而影响芯片的质量。

“除了损耗，就是成本，多次曝光需要更多的光刻胶、耗材和设备，这个投入可能……”

不等梁孟松往下说，孙红军突然打断。

陆飞和他相视一笑，光刻机的光刻胶等材料，早就纳入备胎计划。

“梁博士、尹教授，我们已经投资了博康化学等十几家公司，研发攻克光刻胶这些重要材料。”孙红军笑说，“而且找了德国的明斯特、亚琛工业等多家高校，跟我们国内的科研院校，合力打破霓虹这方面的优势。”

“啊？”

梁孟松和尹志尧面面相觑。

“这是公司的绝密，注意保密。”

陆飞郑重地叮嘱，现在需要偷偷摸摸地发育，特别是光刻机，最缺的就是发育时间。

“陆总，孙总，你们放心！”

梁孟松信誓旦旦地保证，就算台积电、三星的光刻机领先逻辑，哪怕制程工艺先突破28nm，甚至20nm也无妨，他能想办法从28nm，跨越22nm、20nm，直接到14nm。

把因为光刻机设备和技术封锁而落后的代差跟时间，统统给追回来！

“是不是又要跳代？”

陆飞把眼睛眯成一条缝。

梁孟松点头说：“只要尹总能造出28nm光刻机就够了，别是14nm，就是7nm，我也能你们给搓出来！把光刻机上的劣势给扳回来！就是不知道陆总敢不敢再跟我拼一次？”

“有什么不敢？”

“拼，只管给我拼！不要给我心疼钱，我最不怕花钱，但最怕你们不花钱。”陆飞睨了眼孙红军，“老孙，除了德国，霓虹那边也盯紧点，特别是佳能、尼康的动静。”

“尼康那边好像认命了，倒是佳能，选择了另一条道路，研究纳米压印（NIL）。”

孙红军也说不出个所以然。

陆飞让他再探再报，跟进佳能的NIL路线，然后冷不丁来一句，“光刻厂有没有搞头？”

“什么？！”

梁孟松等人一脸震惊。

光刻厂？

只听过光刻机，光刻厂是什么东西？

“咳咳，我是这么想的，ASML的光刻机，为了卖出去，才要小型化、产品化、量产化，这个难度很大，但如果我们把光刻机不做小，而是当基础设施来盖，比如一个足球场大小，是不是可以弥补光源、镜片这些问题？”

陆飞看他们一脸茫然，于是换种说法。

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