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第23章 中微公司688012的前世今生（第1页）

萌芽：诞生背景与创业初心

2004

年，在上海这片充满创新活力的土地上，中微公司正式成立，宛如一颗新星在半导体领域崭露头角。彼时，全球半导体产业正处于高速发展的黄金时期，技术迭代日新月异，而中国的半导体设备产业却面临着诸多困境，核心技术被国外巨头牢牢把控，长期依赖进口，犹如被扼住了咽喉。

中微公司的创始人尹志尧，这位在半导体领域深耕多年的传奇人物，在硅谷积累了近

20

年的丰富经验，是半导体设备研发领域的资深专家

。他曾参与并主导了多项关键技术的研发，在国际半导体设备舞台上有着举足轻重的地位。然而，功成名就的他，心中始终怀揣着一个梦想

——

回国创业，为中国半导体设备产业的崛起贡献自己的力量。

尹志尧深刻认识到，半导体产业作为现代信息技术的核心，是国家科技实力和经济竞争力的重要体现。而半导体设备作为产业发展的基石，其重要性不言而喻。他毅然决然地放弃了在硅谷的优厚待遇和舒适生活，带领着一支由

15

位志同道合的伙伴组成的团队，踏上了回国创业的征程，决心填补中国在高端半导体设备领域的空白。

中微公司从创立之初，就将目光瞄准了国际先进水平，以

“打造具有全球竞争力的高端半导体设备企业”

为愿景，致力于研发拥有自主知识产权的刻蚀机设备。在当时的环境下，这无疑是一项极具挑战性的任务。资金短缺、技术封锁、人才匮乏等难题接踵而至，但尹志尧和他的团队并没有被困难吓倒，他们凭借着坚定的信念和顽强的毅力，开始了艰苦卓绝的创业之路。

成长：发展历程中的关键节点

技术突破与产品落地（2007

-

2012

年）

创业初期，中微公司将全部精力都投入到了刻蚀机的研发之中。经过无数个日夜的艰苦攻关，2007

年，中微公司迎来了第一个重大里程碑

——

首台

然而，中微公司并没有满足于此，他们深知技术创新是企业发展的核心动力，只有不断突破，才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。于是，他们马不停蹄地投入到了下一轮的研发中。在接下来的几年里，中微公司的研发团队夜以继日地工作，攻克了一个又一个技术难题。2011

年，45

纳米介质刻蚀设备研制成功；2013

年，22

纳米介质刻蚀设备也顺利诞生

。每一次技术突破，都代表着中微公司在半导体刻蚀领域的技术实力又上了一个新台阶。

除了刻蚀设备，中微公司在

cvd（金属有机化学气相沉积）设备的研发上也取得了重大突破。2012

年，首台

cvd

设备研制成功并交付客户。cvd

设备主要用于制造

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